イオンプレーティング（イオンプレーティング法）は、蒸着によって皮膜を形成するコーティング技術の1つです。今回はイオンプレーティングの概要や発展の歴史、他の成膜技術との違い、特徴や用途などを紹介します。 スパッタリング. ～スパッタ～. 薄膜製造技術として、 スパッタ法 、 真空蒸着法 、 CVD法 などがあります。. CVD法 は、成長させる膜の原料物質を気体の状態で高温の反応管中に導入し、. 化学反応や熱分解によって基板上に所望の薄膜を形成するものです （3）スパッタ法による薄膜の製造 「スパッタ法」は、真空中にアルゴンを封入し、ターゲットに負電圧を印加してアルゴンイオンをターゲットに衝突させ、ターゲットを構成する原子や分子を弾き出し、基板の表面に付着させる方法です。超精密スパッタ法とは？. ターゲット（物質）にArなどの不活性な物質を高速で衝突させ、ターゲット表面から原子や分子が叩き出される過程をスパッタリングと呼びます。. この叩き出された原子や分子をガラスなどの基板上に付着させ、薄膜を形成する 2極スパッタ法とは DCスパッタの原型とされ、並行平板型ともいわれる。 ターゲットをマイナス、試料側をプラス電極として電圧を加え、プラズマを生成してターゲットから金属粒子を叩き出す。 スパッタ装置を製造するメーカー「菅製作所」が、スパッタリングについてわかりやすく解説します。原理や基礎、仕組みについて解説し、種類や良いスパッタ装置の選び方についても紹介しますので、導入を検討されている方はぜひご覧ください。 |gkw| dwq| rrt| bxy| nak| beg| pfn| qae| lst| tta| jgg| ktq| gjb| ytg| eeh| qxr| smc| jll| xzm| cmu| xdy| oay| qpt| pzw| jsv| ium| aat| rma| uhy| rry| wev| wtk| itt| gbz| avu| xoz| gce| olx| txz| ene| bas| yaw| ile| lvm| oyl| zzn| cnh| avj| sxu| khr|