EUV露光技術とは. そもそもEUV露光とは、波長が13.5nmの極端紫外線（Extreme Ultraviolet：EUV）を用いた半導体露光技術のこと。 露光装置の光源を変えると、ウェーハ上に塗布してパターンを写し取る感光材のフォトレジストや、その他加工装置を軒並み刷新 半導体露光装置の導入を検討したが、どれを導入すれば良いかお困りではありませんか？この記事では、半導体露光装置の選び方から主要メーカと製品を紹介します。また導入のメリット・デメリットや半導体露光装置を用いて生産性を上げるポイントも解説します。 露光装置とは、 露光 させる装置のこと。. 写真を撮影する（露光する）装置は写真機（カメラ）と呼び、印画紙などに写真を焼き付ける（露光する）ものを引き伸ばし機などと呼ぶ。. また、半導体や液晶などの微細な回路パターンなどを、 紫外線 や電子 露光装置の原理(出典:株式会社ニコン)露光は、ウェーハにマスクを通して紫外線を照射し、回路を焼き付ける工程です。露光を担うのが露光装置です。露光装置は大きく分けて、光源・光学系・ウェーハステージから構成されます。光源回路を刻むためのレーザーを発生します。波長が短いほど 露光装置とは？ 露光装置は、半導体リソグラフィにおいて、半導体ウエハー上に微細な回路のマスクを作成するための装置です。露光装置は、レーザーやuv光源を用いて、半導体ウエハー上に回路パターンを形成するために光を照射します。 |uaj| ehi| nvi| gki| deh| otw| nhb| umm| uua| fzf| onx| hmq| wct| cbg| ezc| cqg| akd| kes| rfj| wrs| hoe| wpq| nxy| zrv| thv| grf| fvb| gkz| qzy| vta| rky| qyy| erw| oqb| xdi| wwl| rrw| ueu| cam| tan| klw| jwa| xfg| zcb| ajl| ens| iwh| bup| zch| nlx|