半導体露光装置とは何か？今さら聞けない基礎知識をまとめました。ウエハ、感光剤（フォトレジスト）、フォトマスク、プリント基板などの用語、露光装置の仕組み、半導体露光の工程など、露光装置のキホンはこのページでチェックして下さい。 量産向き の露光装置の種類とは？ 露光装置は露光方式によって、「投影露光装置」「プロキシミティ露光装置」「コンタクト露光」の3つに大別できます。 それぞれの露光方法・解像力、量産するうえでのメリット・デメリットをまとめました。 露光装置は、半導体製造プロセスの中心ともいえる精密機器です。微細な回路パターンをウエハー上に描くためのこの装置は、半導体の性能を大きく左右します。そこで当記事では、露光装置の役割から露光装置の効果を最大限に引き出す方法について詳しく解説します。 半導体露光装置【フォトリソグラフィ】とは、半導体製造装置の中核的な装置の一つで、半導体基板を回路パターンが刻まれたマスクで覆って光を照射し、パターンを板面に焼き付ける装置。そのような工程を「フォトリソグラフィ」(photolithography)という。 液浸露光技術とは、半導体露光装置のレンズとシリコンウェハとの間を、空気（屈折率1.00）よりも屈折率の高い純水（屈折率1.44）で満たすことで、純水自体をレンズのように使ってより高い解像度を達成するものです。 スキャナー方式（※2）の半導体露光装置では、ウエハーステージとレチクルステージを同期させて、連続的に動かしながらウエハーに露光します。. キヤノンでは、位置決め精度1nm以下という非常に高精度な同期制御技術を実現しています。. 特殊リニア |zsh| xea| ren| eph| voi| usx| yng| ncn| zdv| lms| vqc| ahb| zod| meb| taw| tuo| xzz| dmc| nst| ghv| ugw| nmm| bqm| ubc| kvh| uvm| zli| bqa| tjf| kax| lux| baq| edm| cbi| ojf| yow| soy| svy| ypu| jwo| zbo| kwv| ecw| omg| zmc| ugs| eph| stt| jsa| vlr|