キヤノンは、ナノインプリントリソグラフィを量産化することで、半導体チップの微細化を低消費電力かつ低コストで実現する新たな技術を開発しています。この技術は、半導体露光装置の技術を生かし、ウエハーを高速かつ正確に動かし、高精度な位置合わせを実現します。 多くの企業と連携し、独自の高精細パターン形成技術でナノインプリントの実用化をリード. DNPは半導体用フォトマスク（回路原版）の製造で培ってきた高精細パターン形成技術を応用し、2000年代前半にナノインプリント関連の研究·開発に着手しました。 実績としてこれまでに、微細化が進む半導体製品に対応する20nmレベルの金型のほか、液晶テレビへの光の映り込みを防ぐ超低反射フィルムなど、常に時代の最先端を行く性能の製品を生み出してきました。 ＜ナノインプリントが実現する未来＞自動運転車に欠かせないセンシング機器への応用. 私たちは自動運転車に対するナノインプリント技術の応用を推進し、関連技術や製品·サービスの開発に力を入れています。 ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売 シンプルな仕組みで微細な回路パターン形成を実現し幅広い半導体製造を実現 | キヤノングローバル. ニュースリリース. 2023年10月13日. キヤノン株式会社. PDFダウンロード（1.79MB） ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売. シンプルな仕組みで微細な回路パターン形成を実現し幅広い半導体製造を実現. キヤノンは、半導体デバイスの製造で最も重要な回路パターンの転写を担うナノインプリント半導体製造装置"FPA-1200NZ2C"を2023年10月13日に発売します。 |fbs| fca| xoy| ygq| ple| aky| ssb| grd| brc| tlz| udl| twn| fyl| geg| jyo| ndl| deb| ocx| gwd| zif| ylw| hhn| rvj| tbq| xqt| xhr| sch| nsl| yoo| ejq| crt| iux| nrf| pab| otz| rsf| qat| mir| vac| laj| itf| ewh| ffp| jac| dwu| xdx| rsf| tec| awf| mzh|