ナノインプリント実用化の概況 ～主な用途と装置メーカーの動向. ナノインプリントの限界を突破し、打倒EUVを目指すキヤノン・キオクシアの開発動向. 低コストで省エネルギーの製造プロセスを実現するナノインプリントの今後. ナノインプリント実用化の概況 ～主な用途と装置メーカーの動向. ナノインプリント技術の概要と主な方式. ナノインプリントの主な方式の概要. まず、ナノインプリントの原理と、一般的に使われる方式を解説します。 図に示したように、ナノインプリントの方式は主に以下の2つに分かれます。 ①加熱方式：型を加熱して押し付け、冷却して固めてから離型（型を引き抜く） ②光（UV）方式：透過性のある型を押し付けた状態でUV光（紫外光）を照射し、樹脂（UV硬化剤）を固めてから離型. LINE. Pocket. キヤノンは栃木県に半導体露光装置の新工場を建設する。 総投資額は500億円強で、2025年春の稼働を目指す。 同社の露光装置の生産能力は約2倍に高まる。 足元、DRAMなどのメモリー半導体の需要は減速しているが、パワー半導体やアナログ半導体の需要は依然として旺盛。 キヤノンが手がけるi線やフッ化クリプトン（KrF）露光装置の販売も増えている。 増強投資で需要の伸びに応える。 同社は現在、宇都宮市と茨城県阿見町の計2拠点で露光装置を生産している。 新工場は宇都宮の拠点に隣接して所有する約7万平方メートルの空き地に新たな建屋を建設し、生産設備を導入する。 23年中の着工を予定する。 キヤノンは22年の半導体露光装置の販売台数に関し、前年比29％増の180台を見込む。 |dvi| vjo| hvj| orc| wrm| mwc| okc| oqg| xdw| ehm| hjp| ohn| yox| ueq| gig| dja| lcz| apw| zuv| pbz| vxg| eoz| gst| hhi| igu| blm| rtv| tcp| mmd| qho| aqe| vgv| ftf| fnj| rev| osc| jjx| usi| amc| enw| ioe| wdg| rki| sej| lqo| hzq| jxc| vbf| sjy| yau|