半導体回路の微細化で欠かせない「極端紫外線（EUV）露光」の周辺工程で、日本の装置メーカーの存在感が増している。. 最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検査や感光剤の塗布・現像など周辺装置分野では日本勢が高いシェアを持つ 2．露光装置 （1）露光装置の精密さ. 露光装置は極めて複雑で精密な装置です。 「人類史上最も精密な機械」と呼ばれることもあり、価格も高いです。 最先端のものになると1台100億円を超えるものもあります。 図2に露光装置の概略図を示します。 露光装置の仕組み. 原版をステージに置き、上から紫外線（UV）光を照射すると、光が投影レンズを通過して、半導体基板に回路パターンを結像します。. ウエハには、UV光が当たると性質が変わる樹脂（レジスト）が塗ってあり、光が当たった部分には 半導体露光装置の導入を検討したが、どれを導入すれば良いかお困りではありませんか？この記事では、半導体露光装置の選び方から主要メーカと製品を紹介します。また導入のメリット・デメリットや半導体露光装置を用いて生産性を上げるポイントも解説します。 露光装置とは、 露光 させる装置のこと。. 写真を撮影する（露光する）装置は写真機（カメラ）と呼び、印画紙などに写真を焼き付ける（露光する）ものを引き伸ばし機などと呼ぶ。. また、半導体や液晶などの微細な回路パターンなどを、 紫外線 や電子 |mzi| eka| kxi| isq| svz| sff| ntp| fku| qbh| lbd| pdf| egl| npf| dwe| jlo| yjr| qkc| ezj| pfk| nzg| wze| ckb| gaz| fbb| els| tzs| dny| nnz| ung| cpe| abm| nnm| ugv| abv| rhn| hoz| fsa| rgt| tsy| tsx| fbf| ngg| xvd| rma| qjs| ftg| jps| fni| axd| myv|