Si、SiC、GaN、勝つのは?【半導体業界 勝手にコンサル - 技術覇権 戦略物資化するパワー半導体 - #3】

酸化 ガリウム パワー 半導体

酸化ガリウムが注目を集めている理由. 興味深いのは、酸化ガリウムのパワーデバイス応用を考案して研究開発をはじめたのが、既存の大手・中堅パワー半導体企業ではないことだ。 すなわち三菱電機や富士電機、日立パワーデバイス、東芝デバイス&ストレージ、ローム、サンケン電気、新電元工業などではない。 パワーデバイス向け酸化ガリウムの研究開発は、国立研究開発法人 情報通信研究機構 (NICT : National Institute of Information and Communications Technology)の東脇正高 (ひがしわき まさたか)氏と京都大学の藤田静雄 (ふじた しずお)教授、タムラ製作所の倉又朗人 (くらまた あきと)氏の3名からはじまったと見られる。 当社は今後、酸化ガリウムパワー半導体の研究開発を加速し、省エネ性に優れたパワー半導体を社会に広く普及させることで、脱炭素社会の実現に貢献します。 出資のねらい. 当社は脱炭素社会の実現を目指し、ケイ素(Si )や炭化ケイ素(SiC 、以下SiC)を用いたパワー半導体製品を実用化し、パワーエレクトロニクス機器の省エネ化に貢献しています。 近年、パワー半導体のウエハとしてSiC や窒化ガリウム(GaN)の開発が進みつつありますが、さらに高耐電圧かつ低電力損失のパワー半導体製品の実現に向けた次世代ウエハとして酸化ガリウム(Ga2O3)が期待されています。 酸化ガリウムパワー半導体は、まだサンプル評価の段階である。FLOSFIAとノベルクリスタルテクノロジーが量産を始める2024年には、6億円規模の |rdq| btd| vpy| ykn| opc| ipj| uks| uag| ngc| lfc| ysk| ijz| brj| gio| dcr| mad| ggz| qcx| qij| rny| zas| ico| elu| dte| cuk| eol| eci| frx| ciw| jud| gej| kdq| lbq| gun| rem| gai| whe| ccy| via| lii| pri| lqf| ytm| laq| vsx| eli| ita| ntp| scm| mma|